Lithography Machine Mask Aligner Photo-Etching Machine
Pagpaila sa produkto
Ang exposure light source nagsagop sa imported nga UV LED ug light source shaping module, nga adunay gamay nga kainit ug maayo nga light source stability.
Ang inverted lighting structure adunay maayo nga heat dissipation effect ug light source close effect, ug ang mercury lamp puli ug maintenance kay simple ug sayon.Gisangkapan sa taas nga pagpadako nga binocular dual field microscope ug 21 ka pulgada nga lapad nga screen LCD, mahimo kini nga makita pinaagi sa
eyepiece o CCD + display, nga adunay taas nga alignment accuracy, intuitive nga proseso ug sayon nga operasyon.
Mga bahin
Uban sa function sa pagproseso sa tipik
Ang pag-level sa presyur sa kontak nagsiguro sa pag-usab pinaagi sa sensor
Ang alignment gap ug exposure gap mahimong itakda sa digitally
Gamit ang naka-embed nga computer + touch screen nga operasyon, yano ug kombenyente, matahum ug manggihatagon
Ibira ang tipo pataas ug paubos nga plato, yano ug sayon
Pagsuporta sa pagkaladlad sa kontak sa vacuum, pagkaladlad sa lisud nga kontak, pagkaladlad sa kontak sa presyur ug pagkaladlad sa kaduol
Uban sa nano imprint interface function
Ang pagkaladlad sa usa ka layer nga adunay usa ka yawe, taas nga lebel sa automation
Kini nga makina adunay maayo nga pagkakasaligan ug dali nga pasundayag, labi na angay alang sa pagtudlo, panukiduki sa siyensya ug mga pabrika sa mga Kolehiyo ug unibersidad
Dugang detalye
Espesipikasyon
1. Exposure nga lugar: 110mm × 110mm;
2. ★ Exposure wavelength: 365nm;
3. Resolusyon: ≤ 1m;
4. Pag-align sa katukma: 0.8m;
5.Ang motion range sa scanning table sa alignment system labing menos makatagbo: Y: 10mm;
6. Ang wala ug tuo nga light tubes sa alignment system mahimong maglainlain sa X, y ug Z direksyon, X direksyon: ± 5mm, Y direksyon: ± 5mm ug Z direksyon: ± 5mm;
7. Gidak-on sa maskara: 2.5 ka pulgada, 3 ka pulgada, 4 ka pulgada, 5 ka pulgada;
8. Sample nga gidak-on: tipik, 2 ", 3", 4 ";
9. ★ Angayan alang sa gibag-on sa sample: 0.5-6mm, ug makasuporta sa 20mm nga sample nga mga piraso sa kadaghanan (customized);
10. Exposure mode: timing (countdown mode);
11. Dili pagkaparehas sa suga: ＜ 2.5%;
12. Dual field CCD alignment mikroskopyo: zoom lens (1-5 ka beses) + mikroskopyo tumong lens;
13. Ang paglihok nga stroke sa maskara nga may kalabotan sa sample kinahanglan labing menos makatagbo: X: 5mm;Y: 5mm;: 6º；
14. ★ Densidad sa enerhiya sa exposure: > 30MW / cm2,
15. ★ Ang alignment nga posisyon ug exposure position nagtrabaho sa duha ka estasyon, ug ang duha ka station servo motor awtomatikong switch;
16. Ang pag-level sa presyur sa kontak nagsiguro sa pag-usab pinaagi sa sensor;
17. ★ Ang alignment gap ug exposure gap mahimong itakda sa digital;
18. ★ Kini adunay nano imprint interface ug proximity interface;
19. ★ Touch screen nga operasyon;
20. Kinatibuk-ang dimensyon: Mga 1400mm (gitas-on) 900mm (lapad) 1500mm (gitas-on).
